微焦點(diǎn)X射線系統(tǒng)是新一代X射線系統(tǒng),采用平臺(tái)式檢測(cè)設(shè)計(jì),各種模塊都可以即插即用、用戶可以根據(jù)其現(xiàn)在或?qū)?lái)的檢測(cè)需求,選擇合適的功能模塊。主要用于檢測(cè)電子線路板,半導(dǎo)體產(chǎn)品、微電子元件及電路板焊接器件、鑄件等的看不見部分的焊接或鑄造缺陷檢測(cè)、多層綁定芯片的內(nèi)部看不見的缺陷檢測(cè)。
在微焦點(diǎn)X射線系統(tǒng)檢查期間,扇形X射線穿過待檢查的樣本,然后在圖像檢測(cè)器上形成放大的X射線圖像。圖像的質(zhì)量由三個(gè)主要點(diǎn)決定:放大率,分辨率和對(duì)比度,圖像分辨率(清晰度)主要由X射線源的焦點(diǎn)大小決定,圖像的幾何放大率由X射線路徑的幾何特性確定。
在進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)時(shí),常規(guī)微射線檢測(cè)存在很大差異:我們通常不需要考慮圖像半影的大小,即通常不考慮幾何清晰度的影響,原因是當(dāng)焦點(diǎn)尺寸足夠小時(shí),可以忽略半影。因此,當(dāng)X射線視野在可接受范圍內(nèi),我們可以最小化從樣品到焦點(diǎn)的距離。
為什么要使用微焦點(diǎn)X射線系統(tǒng),主要是為了達(dá)到納米級(jí)直徑跳躍誤差和運(yùn)動(dòng)精度,確保樣品在測(cè)試過程中的穩(wěn)定性,保證圖像的高清畫質(zhì),同時(shí)具有樣品運(yùn)動(dòng)自適應(yīng)校正功能,有效降低了樣品掃描過程中運(yùn)動(dòng)和變形引起的不良重建效果。
進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線檢測(cè),當(dāng)焦距很近時(shí),錐束角或視場(chǎng)范圍非常重要。例如,25°錐角的微焦點(diǎn)X射線機(jī)的曝光次數(shù)要小于15°錐角的微焦點(diǎn)X射線機(jī)在檢測(cè)相同范圍時(shí)的曝光次數(shù)。
另一個(gè)需要考慮的是焦點(diǎn)到X射線管窗口外表面的距離,它決定了被檢樣品到焦點(diǎn)的最小距離。 這一參數(shù)的重要性在于它決定了一個(gè)微焦點(diǎn)系統(tǒng)可能達(dá)到的最大放大倍數(shù)。 由于防護(hù)設(shè)施空間的局限以及射線的衰減與距離的平方成反比(I/R2 ),我們無(wú)法隨意拉長(zhǎng)膠片或探測(cè)器到射線源的距離以增大放大倍數(shù)。